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适合半导体用的单槽超声波清洗机优势特点介绍

作者:sdbvav  来源:杰特声波  更新时间:2019-12-26 16:41:20  点击次数:

  本文主要讲解一款适合半导体用的单槽超声波清洗机。半导体产业是现代电子工业的核心,而半导体产品表面的污染物会严重影响器件的性能、可靠性、和成品率。随着微电子技术的飞速发展以及人们对原料要求的提高,污染物对器件的影响也愈加突出。因此,其清洗效果也是不容忽视。


半导体用的单槽超声波清洗机产品优势:

  1、此系列单槽式超声波清洗机,使用碱性或弱酸性水基溶济作为清洗剂;

  2、采用他激式线路结构,输入电功率较旧式电路增加15%以上;

  3、超声输出频率可根据不同工况条件进行微调。配有起声扫频线路,提高清洗效率;

  4、可选加的功能:超声波输出功率连续无级可调、可显示,范围为10—100%;

  5、数字化超声波发生器,采用IGBT模块,单片机技术,工作状态更稳定,输出功率更强大;

  6、整体式结构实用于操作环境湿度小的场地,整体美观,温控采用数显温控控制,控温更准确。


半导体用的单槽超声波清洗机产品特点:

  1、电脑数字化薄膜面板开关,操作简单;

  2、具有自动程序记忆功能,工作模式任意切换;

  3、正常长期工作模式、频率显示工作模式、时间设定工作模式;

  4、安全保护:过流保护,断路保护、短路保护、过热保护等功能;

  5、使用自来水、纯净水;根据产品工艺适当添加清洗液;

  6、大功率换能器清洗效果显著,用肉眼可观察到;

  7、超声波清洗后的物体闪亮发光;

  8、机械控制时间与温度;

  9、全不锈钢外壳与内胆,更结实耐用;

  10、防水性能大大改进,产品更加安全;

  11、配全不锈钢专业清洗网篮(可选购)。







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